| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
|---|---|
| การทำซ้ำ | ±0.002มม |
| พลังเลเซอร์ | 20w |
| ระบบควบคุม | การควบคุมพีซี |
| ชื่อสินค้า | เครื่องยิงเลเซอร์ UV |
| พื้นที่ทำเครื่องหมาย | 110mm x 110mm |
|---|---|
| ระบบทำความเย็น | ระบายความร้อนด้วยอากาศ / ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
| สภาพแวดล้อมในการทำงาน | 10-35 ℃ |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ความเร็วในการทำเครื่องหมาย | 8000 มม. / วินาที |
| พื้นที่ทำเครื่องหมาย | 110mm x 110mm |
|---|---|
| ระบบทำความเย็น | ระบายความร้อนด้วยอากาศ / ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
| สภาพแวดล้อมในการทำงาน | 10-35 ℃ |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ความเร็วในการทำเครื่องหมาย | 8000 มม. / วินาที |
| ชื่อสินค้า | เครื่องยิงเลเซอร์ UV |
|---|---|
| ความลึกของการมาร์ก | 0.01-0.3มม |
| ความยาวคลื่น | 355นาโนเมตร |
| ระบบควบคุม | การควบคุมพีซี |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ระบบเย็น | ระบายความร้อนด้วยอากาศ / ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
|---|---|
| พลังเลเซอร์ | 20w |
| ตัวละครขั้นต่ำ | 0.15มม |
| พลังงานไฟฟ้า | 220V/50Hz |
| ความชื้น | 5-85% RH |
| น้ําหนัก | 50กก |
|---|---|
| ความซ้ํา | ±0.002มม |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ระบบเย็น | ระบายความร้อนด้วยอากาศ / ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
| ความชื้น | 5-85% RH |
| ความลึกของการมาร์ก | 0.01-0.3มม |
|---|---|
| ความซ้ํา | ±0.002มม |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ระบบเย็น | ระบายความร้อนด้วยอากาศ / ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
| สภาพแวดล้อมในการทำงาน | 10-35 ℃ |
| ความชื้น | 5-85% RH |
|---|---|
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| ความยาวคลื่น | 355นาโนเมตร |
| ระบบควบคุม | การควบคุมพีซี |
| ตัวละครขั้นต่ำ | 0.15มม |
| ชื่อสินค้า | เครื่องยิงเลเซอร์ UV |
|---|---|
| ระบบควบคุม | การควบคุมพีซี |
| ประเภทเลเซอร์ | ยูวีเลเซอร์ |
| น้ําหนัก | 50กก |
| ความยาวคลื่น | 355นาโนเมตร |
| ความลึกของการมาร์ก | 0.01-0.3มม |
|---|---|
| ความเร็วในการทำเครื่องหมาย | 8000 มม. / วินาที |
| ความยาวคลื่น | 355นาโนเมตร |
| พื้นที่ทำเครื่องหมาย | 110mm x 110mm |
| พลังเลเซอร์ | 20w |
